氮化硅设备

薄膜沉积设备 – 先进电子材料与器件校级平台

LPCVD（氮化硅薄膜沉积） WDFSLPF02 西区炉管区对外开放李进喜氮化硅薄膜的低压化学气相沉积（LPCVD)；低应力氮化硅薄膜沉积。>700度 3,4,6寸标准硅片；前道硅片（不含任何光刻胶，金属薄膜，严禁污染设备）。1

国产12英寸氮化硅沉积设备进入中国IC制造龙头企业|北方华创

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制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备SiNx－PECVD

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氮化硅陶瓷常见加工设备及加工方法介绍,很多做机加工的朋友，特别是精密模具加工的朋友，可能会碰到客户询价氮化硅陶瓷结构件，这个时候没有非金属陶瓷材料加工经验的朋友可能就会碰到没有合适的设备，不熟悉陶瓷材料加工方法等等一系列的问题，今天小编就为大家分享下，氮化硅陶瓷

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北方华创宣布，2020年4月7日，北方华创THEORISSN302D型12英寸氮化硅沉积设备搬入(Movein)国内集成电路制造龙头企业。该设备的交付，意味着国产立式LPCVD

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一、产品描述热压氮化硅陶瓷运用机加工生产出的高导热氮化硅陶瓷基板，广泛应用于高铁、轨道交通、远程输变电设备、大功率信号传输系统、新能源汽车、大功率逆变器等领域，属于电力电子集成电路关键 …

Y1D32—LPCVD与PECVD氮化硅波导知乎

引言氮化硅由于透光光谱宽、传输损耗低，最近几年已经逐渐发展成一种主流的集成光学工艺平台之一。做集成氮化硅波导，关键在于氮化硅薄膜的制备，成膜质量以及成膜厚度很大程度上决定了一个氮化硅工 …

硅光子 SITRI

硅基氮化镓（GaN ）外延材料硅光子器件硅光学传感器研发能力与服务 SITRI拥有先进的MOCVD设备，专用于开发200mm硅基GaN和GaN赝衬底。凭借在硅基GaN生长方面多年积累的经验，有能力提供高品质的200mm GaN外延层（可用于射频和高功率

对氮化硅陶瓷材料进行加工或切割一般用什么设备百度知道

由于氮化硅陶瓷的硬度较高，因此加工工艺也非常重要，有什么问题可以咨询我们。 …查看全部回答详情 ; 共 3 条回答 ;