导读:LM机器是一家生产矿山机械的大型企业，热销设备包括：颚破、反击破、圆锥破、移动破碎机、制砂机、雷蒙磨、超细立磨等，满足众多领域的使用需求，如果您想了解设备详细型号报价，请点击网站右侧“商务通”，我们24小时免费为您提供解答服务...
GCVD系统是一套完备的石墨烯制备系统，包括硬件和软件部分。工作在常压气氛或真空条件，通过控制，可以在103 Torr ~ 760 Torr之间的任意气压下进行石墨烯的生长。既可以生长出六边形的石墨烯单晶，也可以生长出花瓣状的石墨烯的单晶。
石墨烯制备设备双温区滑轨式CVD系统采用双层壳体并带有风冷系统，使其炉体表面温度都小于55℃ 炉底安装一对滑轨，可手动滑动，以便满足特殊工艺的快速升降温的要求。 炉管尺寸 Φ50/60/80/100×1600mm(可提供特殊定制。) 功率 5kW 输入电压 加热元件
石墨烯CVD制备设备 姓名： 贺工(Kevin) 180 1976 2603 chinanhe@auniontech 这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多
【技术特点】 石墨烯CVD制备设备 这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。
薄膜制备设备 CVD(化学气相沉积) 低真空CVD系统 高真空CVD系统 CVD石墨烯和纳米管生长炉 ALD管式炉系统 (气、液、固）进料系统 供气系统 供液系统 固体粉末进料系统 气体净化系统 等离子镀膜设备 蒸发镀膜设备 PECVD(等离子增强化学气相沉积) 旋涂
中国制造网（cnmadeinchina）为您提供郑州科佳电炉有限公司相关的公司及产品信息介绍，囊括了石墨烯生长炉CVD系统化学气相沉积设备价格、厂家、图片、使用说明等参数。想了解更加全面的石墨烯生长炉CVD系统化学气相沉积设备信息及郑州科佳电炉有限公司的公司信息就上中国制造网。
CVD设备 GCVD 石墨烯化学气相沉积系统 石墨烯（Graphene）自 2004 年发现以来，在短短数年间已经成为凝聚态物理、 化学、 材料科学等领域研究中倍受瞩目的“明星 材料”。
Read: 1166下载次数: 11转载《cVd石墨烯系统设备》时，请标注文章来源：http://www.lmsuishi.com/jzs/138616.html
